RIE刻蝕機是干蝕刻的一種，這種蝕刻的原理是，當在平板電極之間施加10～100MHZ的高頻電壓（RF，radiofrequency）時會產生數百微米厚的離子層（ionsheath），在其中放入試樣，離子高速撞擊試樣而完成化學反應蝕刻，此即為RIE（ReactiveIonEtching）。因此為了得到高速而垂直的蝕刻面，經加速的多數離子不能與其他氣體分子等碰撞，而直接向試樣撞擊。為達到此目的，必須對真空度，氣體流量，離子加速電壓等進行最佳調整，同時，為得到高密度的等離子體，需用磁控管施加磁場，以提高加工能力。
RIE刻蝕機優勢特點：
1.是一種新型的低成本、高性能、全自動反應離子刻蝕系統，能夠滿足非腐蝕性氣體化學苛刻的工藝要求。
2.計算機化觸摸屏為工藝配方編程和存儲提供了用戶友好的界面。
3.該系統可以實現精確的側壁輪廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。
4.憑借其圓滑、緊湊的設計，只需要很小的潔凈室空間。
5.加工至ø220mm（ø3“x5，ø4”x3，ø8”x1）。
6.高選擇性各向異性蝕刻滿足嚴格的工藝要求全自動“一鍵式”操作。
7.自動壓力控制，允許獨立于氣流干泵和系統布局的過程壓力精確控制，便于維護。
8.于Windows的用戶界面，豐富的配方和內置的數據記錄功能，是一個可靠和持久的系統，全球安裝了400多個系統。
RIE刻蝕機是基于PC控制的全自動系統.系統真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實時顯示,流量及功率則以數字形式實時顯示.系統提供密碼保護的四級訪問功能:操作員級、工程師級、工藝人員級,以及維護人員級.允許半自動模式(工程師模式)、寫程序模式(工藝模式),和全自動執行程序模式(操作模式)運行系統。基于全自動的控制，該系統具有高度的可重復性。
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更新時間：2022-09-20 
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